同时也会和港岛的芯片制造商紧密合作，提高 3 微米光刻机的稳定性。”
“在这个过程中，国家也会发布政策鼓励企业与科研机构深度合作，加大研发投入，引进先进设备和人才，深入探索 3 微米技术的工艺和制造方法，提升我国在集成电路领域的技术层次。”
“另外，针对 1 微米技术，我们也会组织优势科研力量和企业展开重点攻关。这一阶段难度极大，涉及更高的技术要求和更先进的设备，需要在光刻、蚀刻、材料等多个关键技术领域实现突破。”
“只有这样，我们才能在国际半导体竞争中占据一席之地。”
秦奕跟伍坚平又探讨了一番产业的未来之后，心满意足地挂了电话，然后联系电子工业局的李青，想要了解下他们对 “531” 有什么安排没有。